恆溫水/油槽
實驗室恆溫水槽或恆溫油槽,控制方式採觸控式面板,微電腦P.I.D.自動演算,LED數字顯示0.1℃。攪拌方式以內部循環泵。可搭配真空包裝機進行低溫真空烹調。
恆溫水油槽選購配件：
屋型蓋或平板蓋。
外部循環裝置。
恆溫磁力攪拌反應器
恆溫攪拌溫反應器產品特性：
SUS 304 不鏽鋼加熱器，適用水浴或油浴。
強力磁鐵攪拌，溫度穩定。
高溫磁鐵可應用於200℃攪拌環境。
PID控制/數位顯示設定溫度。
轉速採旋鈕設定，範圍0~2000rpm。
HWCL-3與HWCL-5具有雙溫度感應器，可以轉換顯示內槽溫度與樣品溫度。
超低溫攪拌恆溫槽
超低溫攪拌恆溫槽產品特性：
單壓縮機系統採用分段冷凝技術設計，降低製造成本。
封閉式磁力攪拌器轉速可達1000rpm。
使用盤管式串連熱交換器減少焊接的接合數提高冷凝的效率。
標準配備可調整式上蓋減少溶媒消耗。
具有超溫警報功能。
低溫攪拌恆溫槽
低溫反應器
可以取代乾冰或液氮營造低溫環境進行條件試驗，特別適用於化學結晶試與生命科學蛋白質酵素反應檢測和鑑定。
低溫反應器產品特性：
溫度數字設定/顯示。
封閉式磁力攪拌器轉速可達1000rpm。
可進行5組不同溫度與反應時間設定。
標準配備可調整式上蓋減少溶媒消耗。
具有超溫警報功能。
可擴充遠端電腦控制。
DHJF-4005/DHJF-8020以上容量具有外循環功能
密閉式高低溫循環槽
密閉高低溫反應器
可以對外提供冷源和熱源，應用於化學、化工、石化、製藥等產業。也可與濃縮機或者玻璃反應釜進行搭配使用。
共分冷卻系統、加熱系統、預冷系統，三個系統可單獨使用，也可以連續使用
快速加熱和冷卻，可以連續升溫和降溫
全密閉循環系統，高溫導熱油不易揮發和氧化，低溫冷凍液不易吸入空氣中的水分
高溫冷卻功能設計可以從高溫直接降溫
高溫斷電、急停、延時、漏電、過熱、過電流多重保護裝置
密閉式高溫循環油浴槽
密閉式高溫循環油浴槽
採用電加熱式升溫，可以對外提供高溫的循環液體熱源，廣泛應用於化學、化工、石化、製藥等產業。也可與濃縮機或者玻璃反應釜進行搭配使用。
容器採用SUS304不鏽鋼製作
數位顯示PID溫度控制
設備設有排氣閥，方便系統加入導熱油
可以利用載冷劑降溫
立式結構附有萬象輪方便移動
高溫循環油浴槽
循環油浴槽
為各種需要加熱的裝置提供熱源，可以單獨使用，也可與濃縮機或者玻璃反應釜進行搭配使用。
容器採用SUS304不鏽鋼製作
數位顯示PID溫度控制
立式結構附有萬象輪方便移動
強制風冷循環提昇降溫速度
超低溫冷卻循環水槽
超低溫冷卻循環水槽產品特性
主要用於提供設備超低溫冷卻循環液體，冷卻能力強，滿足低溫的反應工作，搭配玻璃反應器，可以將反應器內部的物料冷卻到-80℃ 或-100℃。
超低溫冷卻循環水槽
具有高低壓保護裝置、油壓保護、漏電保護、過電流保護、過熱保護
可以連續24小時運作
系統採用密閉式循環有效防止冷凍液與空氣接觸
採用耐低溫循環幫浦保證無洩漏現象
立式結構附有萬向輪方便移動
大量生產型冷卻循環水槽
生產用冷卻循環設備
適用於中試型的生產與檢測設備搭配，對於高純度金屬與稀有金屬的提煉、環境實驗室及磁控濺射、真空鍍膜等大型設備可以提供對於溫度與水質雙重要求的冷卻液體。
可以依照需求訂製，溫度範圍皆可以依照系統
需求生產：-10℃、--20℃、-30℃、-40℃、-55℃、-80℃、-100℃、-110℃
壓縮機延遲、超壓、過熱、過電流、斷電等多重保護
防污染、防垢、有效長期運轉
PLC 人機介面控制
微電腦鎖定功能，可以鎖定系統參數設定值，非工作人員不可以更動
中量生產型冷卻循環水槽
中量生產型冷卻循環水槽
適用於中試型的生產與檢測設備搭配，對於高純度金屬與稀有金屬的提煉、環境實驗室及磁控濺射、真空鍍膜等大型設備可以提供對於溫度與水質雙重要求的冷卻液體。
壓縮機延遲、超壓、過熱、過電流、斷電等多重保護
微電腦鎖定功能，可以鎖定系統參數設定值，非工作人員不可以更動
小量生產型冷卻循環水槽
小量生產型冷卻循環水槽應用範圍
適用於各種化學、生物、物理領域各種需要維持低溫的試驗，大容量開口可直接作為冷凍槽
包裝機、印刷機、低溫試驗機冷卻
噴鍍裝置、冷凍加工夾具、低溫模具、精密研磨、放電加工裝置的冷卻
晶片清洗裝置、蝕刻機的冷卻
雷射裝置冷卻
分析、檢測儀器的冷卻
密閉式冷卻循環水槽
密閉式冷卻循環水槽
可以有效替代實驗室應用中的自來水冷卻,精確控制低於環境溫度並節約水資源;循環幫浦可維持穩定的流量,並內置過濾器,保護循環幫浦防止堵塞;配有腳輪,方便移動;密閉性設計，防止載冷劑的揮發與汙染;具液位顯示視窗;循環系統安裝壓力錶可以顯示壓力;是各種領域(化學、生物、物理)中需要維持低溫試驗的理想恆溫控制冷卻設備。
密閉式冷卻循環水槽應用領域
旋轉濃縮蒸發、夾套玻璃反應器,生物醱酵槽、原子吸收、ICP、ICP-MS、NMR
材料領域：X 光繞射、X 螢光、磁控濺射、真空鍍膜機、雷射蝕刻
冷卻循環水槽
冷卻控制模式:微電腦P.I.D自動演算功能
顯示模式:LED數字顯示
循環幫浦:IWAKI幫浦
(12L/min 有效揚程2.1M)循環水槽產品特性
冷卻循環水槽適用範圍
各種需要熱交換之設備與實驗
各型光譜儀之水冷式控溫槽座
各類有機化學合成附屬之冷凝功能
小型雷射之熱交換
半導體之CVD、曝光、蝕刻裝置
真空系統之冷卻凝結
減壓濃縮系統之冷卻凝結
冷卻循環水槽選購配件：
加壓型幫浦：流量可達75L/min，揚程可達6.8m
過溫保護開關：溫度到達預設保護溫度自動關閉壓縮機
雙進雙出循環設計
低溫壓縮機更換：配合低溫型冷媒系統可升級-30℃或-40℃機型計
可依照需求更換為密閉式循環系統