切割機
用於金相實驗樣品的前處理,切取金相試片時要先考量樣本硬度,選擇適當的部位及方向,尚須注意充分的冷卻,以免試片因切削而局部發熱,使得組織產生變化。
切割機慢速精密切割機 CL-40
慢速精密切割機 CL-40
旋鈕轉速調整(馬力40W 轉速0~400rpm)
鑽石切削刀片直徑:φ3”~5”
切割荷重壓力:400 kg
橫向進刀範圍:0.01~25 mm
冷卻液容量:400 ml
標準配附:V型樣品夾具
機台重量:18 kg
外型尺寸:290(W)x390(D)x400(H) mm
旋轉塗佈機
旋轉塗佈機原理:
旋轉塗佈機,spin coaters,利用真空吸住基板,將欲塗佈的化學物質,如:光阻劑,由上方噴嘴滴下,藉由旋轉的離心力將物質均勻散佈,塗佈膜的厚度則視化學物質黏度,以及旋轉速度與旋轉時間來調整
光學實驗桌
鋼製蜂槽結構光學桌
表面平度:±0.1mm/60x60 cm
孔距:公制25mm x M6 x 1P 英製:25.4mm x (1/4 x 20W)
採用日本氣體隔離系統之精密防震氣囊
氣體隔離器:精密感應垂直水平震動傾斜可自動微調水平
承載重量可達800 kg
桌腳調整座(下):外徑100mm 厚50mm螺桿M24可上下調整±50mm
桌腳調整座(上):外徑70mm 厚38mm螺桿M20可上下調整±50mm
行星式球磨機
行星式球磨機
行星式球磨機在同一轉盤上裝有二或四個球磨罐,當轉盤轉動時,球磨罐在繞轉盤軸公轉的同時又圍繞自身軸心自轉,作行星式運動。罐中磨球在高速運動中相互碰撞,研磨和混合樣品。此產品能用乾、濕兩種方法研磨和混合粒度不同、材料各異的產品,研磨產品最小粒度可至0.1微米(即1.0×10mm-4)。亦有觸控型面板機型或是低溫型機型可供選擇
工作方式:兩個或四個球磨罐同時工作
最大裝樣量:球磨罐容積的三分之二
進料粒度:土壤料≤10mm 其它料≤3mm
出料粒度:最小可達0.1um(即1.0×10mm-4) 。
適用樣品-建築材料-化學製品-顏料-玻璃-陶瓷-岩石-礦物
應用-精密陶瓷粉體-高分子複合材料-生醫材料-礦石建築材料-膠狀顏料研磨-機械合金製備
如果研磨物料量小,亦可考慮撞擊式球磨機